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 [最新ニュース一覧] [カテゴリ別一覧] |
2003年11月28日 | |
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半導体業界の地球温暖化対策に寄与する ＣＶＤ装置クリーニングガス「ＣＯＦ２」本格販売 |
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【要 旨】 ダイキン工業株式会社（本社：大阪市）は、半導体製造工程で使用される地球温暖化係数（ＧＷＰ）の高いクリーニングガスの代替用として温暖化防止に効果を発揮するＣＯＦ２（フツ化カルボニル）を商品化し、１２月より本格販売を開始します。 半導体製造の主要工程に用いられるＣＶＤ装置（化学的気相蒸着法）ではクリーニングガスとしてＰＦＣ（パーフルオロカーボン）やＮＦ３（三フッ化窒素）などが使用されていますが、いずれもオゾン層破壊係数はゼロながら地球温暖化係数がＣＯ２（二酸化炭素）の数万倍あり、何らかの代替技術･材料の開発が必要とされていました。 このため、（独）新エネルギー・産業技術総合開発機構（ＮＥＤＯ）の委託を受けた（財）地球環境産業技術研究機構（ＲＩＴＥ）を中心に半導体関連企業が協力した国家プロジェクト「半導体ＣＶＤ洗浄プロジェクト」が、１９９８年から２００３年にかけて代替技術・材料の研究開発を行い、ＣＶＤ装置でＣＯＦ２使用の新システムを開発、半導体業界の地球温暖化対策における有力な解決策として提示しました。 その後、安全性の確認調査等を行い、最終年の２００３年３月の総合評価によりＣＯF２を代替最有力材料に選定しました。 ＲＩＴＥ報告では、従来法に比べＣＯＦ２は温暖化効果を約９９％削減でき、洗浄効果も遜色ないものとしています。また、ＣＯＦ２は水スクラバーで容易に除害できることからＰＦＣ、ＮＦ３などで用いられる燃焼除害装置を必要とせず、半導体製造工程におけるエネルギー消費や二酸化炭素排出の削減にも寄与するものと考えられます。 当社は、ガス製造メーカーの立場から本プロジェクトに当初より参画し、今回の総合評価を得て環境対応品として期待されるＣＯＦ２事業化の方針を固め、供給体制を整えました。すでに数社にはサンプル提供を開始しており、半導体および液晶生産工程でのクリーニングガス需要も加味して初年度０．５億円、５年後の２００８年には５０億円の販売を目指します。 |
| ［ ＣＯＦ２（フツ化カルボニル） ］の特性 | |||
| ・分子量：６６ | ・沸点：−８５℃ | ・燃焼範囲：不燃 | ・引火点：なし |
| ・オゾン層破壊係数：０ | ・地球温暖化係数：１（二酸化炭素と同じ） | ||
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| 【参 考】 | |||||||||
| １． | クリーニングガスの温暖化係数（ＧＷＰ）
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| ２． | 半導体製造プロセス ＊ＣＶＤ装置（化学的気相蒸着法）は上記酸化膜形成，絶縁膜形成工程にて使用される。 |
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| ３． | 地球温暖化係数（ＧＷＰ） 地球の温暖化に与える影響を一定期間で積分したもので、二酸化炭素を１としたときの係数（相対値）で示される。ＣＯＦ２は水が共存すると二酸化炭素に分解するので、ＧＷＰは二酸化炭素と同じである。 Global Warming Potential | ||||||||
| ４． | オゾン層破壊係数（ＯＤＰ） 現在の知見に基つき、各物質がオゾンを破壊すると考えられる能力を定数化したもので、クロロトリフルオロメタンを１としたときの係数（相対値）で示される。 Ozone Depletion Potential | ||||||||
| ５． | （独）新エネルギー・産業技術総合開発機構（ＮＥＤＯ） 新規産業創出のための産業技術の研究開発、地球環境問題解決のためのクリーンエネルギーの研究開発を担う独立行政法人。 New Energy and Industrial Technology Development Organization | ||||||||
| ６． | （財）地球環境産業技術研究機構（ＲＩＴＥ） 地球環境保全に対する産業技術の研究開発・調査研究を推進する中核的研究機関。 Research Institute of Innovative Technology for the Earth | ||||||||
| ７． | 半導体洗浄プロジェクト 正式名称：「ＳＦ６等に代替するガスを利用した電子デバイス製造クリーニングシステムの研究開発」 | ||||||||
| ８． | 当社は、次世代用Ｆ２レジストポリマー、フッ素系新規薬剤、エッチング剤や材料以外の機器関係として半導体製造装置に使用される省エネチラー、精密空調モジュール、フッ素樹脂ＰＴＦＥエアフィルター、ファンフィルターユニツト、フッ素を使ったシール材（Ｏ-リング）等の多彩な製品群で半導体業界の最先端技術をバックアップしている。 | ||||||||
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